Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Journal of Electrical Engineering
Tom 65 (2014): Zeszyt 6 (November 2014)
Otwarty dostęp
Electron Beam Lithography Double Step Exposure Technique for Fabrication of Mushroom-Like Profile in Bilayer Resist System
Indykiewicz Kornelia
Indykiewicz Kornelia
,
Paszkiewicz Bogdan
Paszkiewicz Bogdan
,
Szymański Tomasz
Szymański Tomasz
oraz
Paszkiewicz Regina
Paszkiewicz Regina
| 31 sty 2015
Journal of Electrical Engineering
Tom 65 (2014): Zeszyt 6 (November 2014)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
31 sty 2015
Zakres stron:
381 - 385
Otrzymano:
15 cze 2014
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2014-0062
© 2015 Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, Slovak University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Indykiewicz Kornelia
Paszkiewicz Bogdan
Szymański Tomasz
Paszkiewicz Regina
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Technology, 27 Wybrzeze Wyspiańskiego Str., 50-370 Wroclaw, Poland