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Electron Beam Lithography Double Step Exposure Technique for Fabrication of Mushroom-Like Profile in Bilayer Resist System

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Cita

Indykiewicz Kornelia
Paszkiewicz Bogdan
Szymański Tomasz
Paszkiewicz Regina
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Technology, 27 Wybrzeze Wyspiańskiego Str., 50-370 Wroclaw, Poland
eISSN:
1339-309X
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
6 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Engineering, Introductions and Overviews, other