Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (September 2015)
Otwarty dostęp
Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions
Alexander Yoffe
Alexander Yoffe
,
Ilya Zon
Ilya Zon
,
Yishay Feldman
Yishay Feldman
oraz
Victor Shelukhin
Victor Shelukhin
| 30 sie 2016
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 3 (September 2015)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
30 sie 2016
Zakres stron:
606 - 611
Otrzymano:
13 sty 2014
Przyjęty:
31 maj 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0088
Słowa kluczowe
carbon deposition
,
reactive plasma
,
fluoridation
© 2016
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Alexander Yoffe
Weizmann Institute of Science, Rehovot, Israel 2Tel Aviv University, Tel Aviv, Israel
Ilya Zon
Weizmann Institute of Science, Rehovot, Israel
Yishay Feldman
Weizmann Institute of Science, Rehovot, Israel
Victor Shelukhin
Tel Aviv University, Tel Aviv, Israel