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Controlled fluoridation of amorphous carbon films deposited at reactive plasma conditions


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Alexander Yoffe
Weizmann Institute of Science, Rehovot, Israel 2Tel Aviv University, Tel Aviv, Israel
Ilya Zon
Weizmann Institute of Science, Rehovot, Israel
Yishay Feldman
Weizmann Institute of Science, Rehovot, Israel
Victor Shelukhin
Tel Aviv University, Tel Aviv, Israel
eISSN:
2083-134X
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien