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Surface morphology of titanium nitride thin films synthesized by DC reactive magnetron sputtering

Ţǎlu, Ştefan

,

Sebastian Stach

Stach, Sebastian

,

Shahoo Valedbagi

Valedbagi, Shahoo

,

S. Mohammad Elahi

Elahi, S. Mohammad

et

13 mars 2015

Surface morphology of titanium nitride thin films synthesized by DC reactive magnetron sputtering's Cover Image

Materials Science-Poland

Édition 33 (2015): Edition 1 (Mars 2015)

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Publié en ligne: 13 mars 2015

Pages: 137 - 143

Reçu: 25 juil. 2014

Accepté: 07 oct. 2014

DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0010

Mots clés
atomic force microscopy (AFM), DC reactive magnetron sputtering, fractal analysis, surface roughness, titanium nitride (TiN) thin film

© 2015

This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.

Langue:: Anglais

Périodicité:: 4 fois par an
Sujets de la revue:: Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux

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