Otwarty dostęp

Investigation of structural, optical and electrical properties of (Ti,Nb)Ox thin films deposited by high energy reactive magnetron sputtering

Michal Mazur

Michal Mazur

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Mazur, Michal
, 
Danuta Kaczmarek

Danuta Kaczmarek

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Kaczmarek, Danuta
, 
Eugeniusz Prociow

Eugeniusz Prociow

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Prociow, Eugeniusz
, 
Jaroslaw Domaradzki

Jaroslaw Domaradzki

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Domaradzki, Jaroslaw
, 
Damian Wojcieszak

Damian Wojcieszak

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Wojcieszak, Damian
 oraz 
Jakub Bocheński

Jakub Bocheński

Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Bocheński, Jakub
  
17 paź 2014
Investigation of structural, optical and electrical properties of (Ti,Nb)Ox thin films deposited by high energy reactive magnetron sputtering's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 17 paź 2014
Zakres stron: 457 - 464
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-013-0195-4
Słowa kluczowe
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma