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Investigation of structural, optical and electrical properties of (Ti,Nb)Ox thin films deposited by high energy reactive magnetron sputtering

Michal Mazur

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Mazur, Michal
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Jakub Bocheński

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Bocheński, Jakub
  
17 ott 2014
Investigation of structural, optical and electrical properties of (Ti,Nb)Ox thin films deposited by high energy reactive magnetron sputtering's Cover Image
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
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Pubblicato online: 17 ott 2014
Pagine: 457 - 464
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-013-0195-4
Parole chiave
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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