Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 29 (2011): Zeszyt 4 (December 2011)
Otwarty dostęp
Reactive ion etching of GaN and AlGaN/GaN assisted by Cl2/BCl3
J. Gryglewicz
J. Gryglewicz
,
W. Oleszkiewicz
W. Oleszkiewicz
,
M. Ramiączek-Krasowska
M. Ramiączek-Krasowska
,
A. Szyszka
A. Szyszka
,
J. Prażmowska
J. Prażmowska
,
B. Paszkiewicz
B. Paszkiewicz
,
R. Paszkiewicz
R. Paszkiewicz
oraz
M. Tłaczała
M. Tłaczała
| 08 maj 2012
Materials Science-Poland
Tom 29 (2011): Zeszyt 4 (December 2011)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
08 maj 2012
Zakres stron:
260 - 265
DOI:
https://doi.org/10.2478/s13536-011-0045-1
Słowa kluczowe
plasma
,
RIE
,
reactive ion etching
,
Cl2
,
BCl3
,
HEMT
© 2011 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
J. Gryglewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
W. Oleszkiewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
M. Ramiączek-Krasowska
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
A. Szyszka
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
J. Prażmowska
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
B. Paszkiewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
R. Paszkiewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
M. Tłaczała
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland