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Materials Science-Poland
Volumen 29 (2011): Edición 4 (December 2011)
Acceso abierto
Reactive ion etching of GaN and AlGaN/GaN assisted by Cl2/BCl3
J. Gryglewicz
J. Gryglewicz
,
W. Oleszkiewicz
W. Oleszkiewicz
,
M. Ramiączek-Krasowska
M. Ramiączek-Krasowska
,
A. Szyszka
A. Szyszka
,
J. Prażmowska
J. Prażmowska
,
B. Paszkiewicz
B. Paszkiewicz
,
R. Paszkiewicz
R. Paszkiewicz
y
M. Tłaczała
M. Tłaczała
| 08 may 2012
Materials Science-Poland
Volumen 29 (2011): Edición 4 (December 2011)
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Publicado en línea:
08 may 2012
Páginas:
260 - 265
DOI:
https://doi.org/10.2478/s13536-011-0045-1
Palabras clave
plasma
,
RIE
,
reactive ion etching
,
Cl2
,
BCl3
,
HEMT
© 2011 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
J. Gryglewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
W. Oleszkiewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
M. Ramiączek-Krasowska
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
A. Szyszka
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
J. Prażmowska
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
B. Paszkiewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
R. Paszkiewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland
M. Tłaczała
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Janiszewskiego 11/17, 50-372, Wroclaw, Poland