Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 37 (2019): Zeszyt 3 (September 2019)
Otwarty dostęp
Optimization and characterization of NiO thin films prepared via NSP technique and its P-N junction diode application
Joseph Saju
Joseph Saju
oraz
O.N. Balasundaram
O.N. Balasundaram
| 18 paź 2019
Materials Science-Poland
Tom 37 (2019): Zeszyt 3 (September 2019)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
18 paź 2019
Zakres stron:
338 - 346
Otrzymano:
05 cze 2017
Przyjęty:
03 gru 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2019-0049
Słowa kluczowe
thin films
,
X-ray diffraction
,
optical and electrical properties
© 2019 Joseph Saju et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.