Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 4 (December 2018)
Otwarty dostęp
Influence of modulation frequency on the synthesis of thin films in pulsed magnetron sputtering processes
G.W. Strzelecki
G.W. Strzelecki
,
K. Nowakowska-Langier
K. Nowakowska-Langier
,
R. Chodun
R. Chodun
,
S. Okrasa
S. Okrasa
,
B. Wicher
B. Wicher
oraz
K. Zdunek
K. Zdunek
| 01 lut 2019
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 4 (December 2018)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
01 lut 2019
Zakres stron:
697 - 703
Otrzymano:
29 lis 2017
Przyjęty:
16 lip 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2018-0078
Słowa kluczowe
pulsed magnetron sputtering
,
pulse plasma
,
modulation frequency
,
metallic films
,
ceramic films
© 2018 G.W. Strzelecki et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.