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Materials Science-Poland
Volumen 36 (2018): Edición 4 (December 2018)
Acceso abierto
Influence of modulation frequency on the synthesis of thin films in pulsed magnetron sputtering processes
G.W. Strzelecki
G.W. Strzelecki
,
K. Nowakowska-Langier
K. Nowakowska-Langier
,
R. Chodun
R. Chodun
,
S. Okrasa
S. Okrasa
,
B. Wicher
B. Wicher
y
K. Zdunek
K. Zdunek
| 01 feb 2019
Materials Science-Poland
Volumen 36 (2018): Edición 4 (December 2018)
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Publicado en línea:
01 feb 2019
Páginas:
697 - 703
Recibido:
29 nov 2017
Aceptado:
16 jul 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2018-0078
Palabras clave
pulsed magnetron sputtering
,
pulse plasma
,
modulation frequency
,
metallic films
,
ceramic films
© 2018 G.W. Strzelecki et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.