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Materials Science-Poland
Volume 36 (2018): Numero 4 (December 2018)
Accesso libero
Influence of modulation frequency on the synthesis of thin films in pulsed magnetron sputtering processes
G.W. Strzelecki
G.W. Strzelecki
,
K. Nowakowska-Langier
K. Nowakowska-Langier
,
R. Chodun
R. Chodun
,
S. Okrasa
S. Okrasa
,
B. Wicher
B. Wicher
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K. Zdunek
K. Zdunek
| 01 feb 2019
Materials Science-Poland
Volume 36 (2018): Numero 4 (December 2018)
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Pubblicato online:
01 feb 2019
Pagine:
697 - 703
Ricevuto:
29 nov 2017
Accettato:
16 lug 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2018-0078
Parole chiave
pulsed magnetron sputtering
,
pulse plasma
,
modulation frequency
,
metallic films
,
ceramic films
© 2018 G.W. Strzelecki et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.