Otwarty dostęp

Thickness and tensile stress determination of black silicon layers by spectral reflectance and Raman scattering


Zacytuj

Martin Králik
Institute of Aurel Stodola, Faculty of Electrical Engineering, University of ŽilinaLiptovský Mikuláš, Slovakia
Stanislav Jurečka
Institute of Aurel Stodola, Faculty of Electrical Engineering, University of ŽilinaLiptovský Mikuláš, Slovakia
Emil Pinčík
Institute of Physics, Slovak Academy of Sciences Bratislava, Slovakia
eISSN:
1339-309X
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
6 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Engineering, Introductions and Overviews, other