Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 4 (December 2015)
Otwarty dostęp
Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition
Rafal Chodun
Rafal Chodun
,
Katarzyna Nowakowska-Langier
Katarzyna Nowakowska-Langier
oraz
Krzysztof Zdunek
Krzysztof Zdunek
| 06 sty 2016
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 4 (December 2015)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
06 sty 2016
Zakres stron:
894 - 901
Otrzymano:
31 maj 2015
Przyjęty:
05 paź 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Słowa kluczowe
OES
,
AlN films
,
nanocrystalline films
,
magnetron sputtering
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Rafal Chodun
Faculty of Materials Science and Engineering Warsaw University of Technology
Warsaw, Poland
Katarzyna Nowakowska-Langier
National Centre for Nuclear Research (NCBJ)
Otwock-Swierk, Poland
Krzysztof Zdunek
Faculty of Materials Science and Engineering Warsaw University of Technology
Warsaw, Poland