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Materials Science-Poland
Édition 33 (2015): Edition 4 (December 2015)
Accès libre
Methods of optimization of reactive sputtering conditions of Al target during AlN films deposition
Rafal Chodun
Rafal Chodun
,
Katarzyna Nowakowska-Langier
Katarzyna Nowakowska-Langier
et
Krzysztof Zdunek
Krzysztof Zdunek
| 06 janv. 2016
Materials Science-Poland
Édition 33 (2015): Edition 4 (December 2015)
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Publié en ligne:
06 janv. 2016
Pages:
894 - 901
Reçu:
31 mai 2015
Accepté:
05 oct. 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0116
Mots clés
OES
,
AlN films
,
nanocrystalline films
,
magnetron sputtering
© 2015 Rafal Chodun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Rafal Chodun
Faculty of Materials Science and Engineering Warsaw University of Technology
Warsaw, Poland
Katarzyna Nowakowska-Langier
National Centre for Nuclear Research (NCBJ)
Otwock-Swierk, Poland
Krzysztof Zdunek
Faculty of Materials Science and Engineering Warsaw University of Technology
Warsaw, Poland