Login
Registrati
Reimposta password
Pubblica & Distribuisci
Soluzioni Editoriali
Soluzioni di Distribuzione
Temi
Architettura e design
Arti
Business e Economia
Chimica
Chimica industriale
Farmacia
Filosofia
Fisica
Geoscienze
Ingegneria
Interesse generale
Legge
Letteratura
Linguistica e semiotica
Matematica
Medicina
Musica
Scienze bibliotecarie e dell'informazione, studi library
Scienze dei materiali
Scienze della vita
Scienze informatiche
Scienze sociali
Sport e tempo libero
Storia
Studi classici e del Vicino Oriente antico
Studi culturali
Studi ebraici
Teologia e religione
Pubblicazioni
Riviste
Libri
Atti
Editori
Blog
Contatti
Cerca
EUR
USD
GBP
Italiano
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Carrello
Home
Riviste
Materials Science-Poland
Volume 35 (2017): Numero 1 (March 2017)
Accesso libero
Effect of target power on the physical properties of Ti thin films prepared by DC magnetron sputtering with supported discharge
A. Kavitha
A. Kavitha
,
R. Kannan
R. Kannan
e
S. Rajashabala
S. Rajashabala
| 24 feb 2017
Materials Science-Poland
Volume 35 (2017): Numero 1 (March 2017)
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Sommario
Articolo
Immagini e tabelle
Bibliografia
Autori
Articoli in questo Numero
Anteprima
PDF
Cita
CONDIVIDI
Pubblicato online:
24 feb 2017
Pagine:
173 - 180
Ricevuto:
05 lug 2016
Accettato:
05 gen 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0022
Parole chiave
Ti thin films
,
supported discharge/triode mode
,
DC magnetron sputtering
,
target power
© 2017 A. Kavitha, R. Kannan, S. Rajashabala
This article is distributed under the terms of the Creative Commons Attribution Non-Commercial License, which permits unrestricted non-commercial use, distribution, and reproduction in any medium, provided the original work is properly cited.