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Materials Science-Poland
Volumen 35 (2017): Edición 1 (March 2017)
Acceso abierto
Effect of target power on the physical properties of Ti thin films prepared by DC magnetron sputtering with supported discharge
A. Kavitha
A. Kavitha
,
R. Kannan
R. Kannan
y
S. Rajashabala
S. Rajashabala
| 24 feb 2017
Materials Science-Poland
Volumen 35 (2017): Edición 1 (March 2017)
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Publicado en línea:
24 feb 2017
Páginas:
173 - 180
Recibido:
05 jul 2016
Aceptado:
05 ene 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0022
Palabras clave
Ti thin films
,
supported discharge/triode mode
,
DC magnetron sputtering
,
target power
© 2017 A. Kavitha, R. Kannan, S. Rajashabala
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