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Micro-structural and bonding structure analysis of TiAlN thin films deposited with varying N2 flow rate via ion beam sputtering technique

Soham Das

Soham Das

Department of Mechanical Engineering, Sikkim Manipal Institute of Technology, Sikkim Manipal UniversityRangpo, India
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Das, Soham
, 
Mukul Gupta

Mukul Gupta

UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University CampusIndore, India
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Gupta, Mukul
, 
Ashis Sharma

Ashis Sharma

Department of Mechanical Engineering, Sikkim Manipal Institute of Technology, Sikkim Manipal UniversityRangpo, India
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Sharma, Ashis
 et 
Bibhu P. Swain

Bibhu P. Swain

Department of Physics, National Institute of TechnologyIndia
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Swain, Bibhu P.
  
08 mai 2020
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Publié en ligne: 08 mai 2020
Pages: 122 - 131
Reçu: 13 oct. 2018
Accepté: 23 avr. 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2020-0006
Mots clés
© 2020 Soham Das et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
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