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Micro-structural and bonding structure analysis of TiAlN thin films deposited with varying N2 flow rate via ion beam sputtering technique

Soham Das

Soham Das

Department of Mechanical Engineering, Sikkim Manipal Institute of Technology, Sikkim Manipal UniversityRangpo, India
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Das, Soham
, 
Mukul Gupta

Mukul Gupta

UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University CampusIndore, India
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Gupta, Mukul
, 
Ashis Sharma

Ashis Sharma

Department of Mechanical Engineering, Sikkim Manipal Institute of Technology, Sikkim Manipal UniversityRangpo, India
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Sharma, Ashis
 und 
Bibhu P. Swain

Bibhu P. Swain

Department of Physics, National Institute of TechnologyIndia
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Swain, Bibhu P.
  
08. Mai 2020
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Online veröffentlicht: 08. Mai 2020
Seitenbereich: 122 - 131
Eingereicht: 13. Okt. 2018
Akzeptiert: 23. Apr. 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2020-0006
Schlüsselwörter
© 2020 Soham Das et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien
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