Connexion
S'inscrire
Réinitialiser le mot de passe
Publier & Distribuer
Solutions d'édition
Solutions de distribution
Thèmes
Architecture et design
Arts
Business et économie
Chimie
Chimie industrielle
Droit
Géosciences
Histoire
Informatique
Ingénierie
Intérêt général
Linguistique et sémiotique
Littérature
Mathématiques
Musique
Médecine
Pharmacie
Philosophie
Physique
Sciences bibliothécaires et de l'information, études du livre
Sciences des matériaux
Sciences du vivant
Sciences sociales
Sport et loisirs
Théologie et religion
Études classiques et du Proche-Orient ancient
Études culturelles
Études juives
Publications
Journaux
Livres
Comptes-rendus
Éditeurs
Blog
Contact
Chercher
EUR
USD
GBP
Français
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Panier
Home
Journaux
Materials Science-Poland
Édition 38 (2020): Edition 1 (March 2020)
Accès libre
Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO
3
films
S. Subbarayudu
S. Subbarayudu
,
K. Venkata Subba Reddy
K. Venkata Subba Reddy
et
S. Uthanna
S. Uthanna
| 08 mai 2020
Materials Science-Poland
Édition 38 (2020): Edition 1 (March 2020)
À propos de cet article
Article précédent
Article suivant
Résumé
Références
Auteurs
Articles dans cette édition
Aperçu
PDF
Citez
Partagez
Publié en ligne:
08 mai 2020
Pages:
41 - 47
Reçu:
17 août 2017
Accepté:
23 avr. 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2020-0001
Mots clés
MoO thin films
,
RF magnetron sputtering
,
sputtering pressure
,
structural properties
,
optical properties
© 2020 S. Subbarayudu et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
S. Subbarayudu
Department of Physics, S.B.V.R. Degree College
India
K. Venkata Subba Reddy
Department of Physics, S.B.V.R. Degree College
India
S. Uthanna
Department of Physics, Sri Venkateswara University
Tirupati, India