Uneingeschränkter Zugang

Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO3 films


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S. Subbarayudu
Department of Physics, S.B.V.R. Degree College India
K. Venkata Subba Reddy
Department of Physics, S.B.V.R. Degree College India
S. Uthanna
Department of Physics, Sri Venkateswara UniversityTirupati, India
eISSN:
2083-134X
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien