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Journal of Electrical Engineering
Volumen 74 (2023): Edición 4 (August 2023)
Acceso abierto
Inhomogeneous HfO
2
layer growth at atomic layer deposition
Aarne Kasikov
Aarne Kasikov
,
Aivar Tarre
Aivar Tarre
y
Guillermo Vinuesa
Guillermo Vinuesa
| 29 ago 2023
Journal of Electrical Engineering
Volumen 74 (2023): Edición 4 (August 2023)
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Publicado en línea:
29 ago 2023
Páginas:
246 - 255
Recibido:
11 may 2023
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2023-0031
Palabras clave
hafnium thin films
,
spectroscopic ellipsometry
,
growth inhomogeneity
,
atomic layer deposition
,
packing density
,
resistive switching
,
filament formation
© 2023 Aarne Kasikov et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.