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Reactive Magnetron Sputtering Control Based on an Analytical Condition of Stoichiometry

Róbert Rossi Madarász

Róbert Rossi Madarász

Doctoral School of Applied Mathematics and Applied Informatics, John von Neumann Faculty, Óbuda UniversityBudapest,
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Madarász, Róbert Rossi
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András Kelemen

András Kelemen

Department of Electrical Engineering, Faculty of Technical and Human Sciences, Sapientia-Hungarian University of TransylvaniaMureş,
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Kelemen, András
  
25 dic 2023
Reactive Magnetron Sputtering Control Based on an Analytical Condition of Stoichiometry's Cover Image
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Publicado en línea: 25 dic 2023
Páginas: 74 - 85
Recibido: 15 jun 2023
DOI: https://doi.org/10.2478/auseme-2023-0006
Palabras clave
© 2023 Róbert Rossi Madarász et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
1 veces al año
Temas de la revista:
Ingeniería, Ingeniería eléctrica, Tecnologías de la información, Ingeniería energética, Ingeniería mecánica, Herramientas y métodos, Ingeniería de procesos e ingeniería industrial
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