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Materials Science-Poland
Volumen 34 (2016): Edición 3 (September 2016)
Acceso abierto
Titanium nitride coatings synthesized by IPD method with eliminated current oscillations
Rafał Chodun
Rafał Chodun
,
Katarzyna Nowakowska-Langier
Katarzyna Nowakowska-Langier
y
Krzysztof Zdunek
Krzysztof Zdunek
| 08 sept 2016
Materials Science-Poland
Volumen 34 (2016): Edición 3 (September 2016)
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Article Category:
Research Article
Publicado en línea:
08 sept 2016
Páginas:
523 - 528
Recibido:
01 sept 2015
Aceptado:
31 may 2016
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2016-0074
Palabras clave
Impulse plasma deposition (IPD) method
,
nanocrystalline coatings
,
TiN coatings
,
wear resistant coatings
© 2016 Rafał Chodun et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Fig. 1
Schematic diagram of the IPD device equipped with diodes bank.
Fig. 2
Current waveforms measured in the plasma accelerator electric circuit equipped with diodes bank (lower graph) and without the diodes bank (upper graph).
Fig. 3
SEM images presenting structures of TiN coatings deposited by processes with diodes bank connected to accelerator circuit (B) and without it (A).
Fig. 4
X-ray diffraction patterns for the films obtained in the standard version of apparatus (A) and in apparatus equipped with diodes bank (B).
Fig. 5
The indicator of the edge blunting (VBC) as a function of machining time for three types of inserts.