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Investigation of structural, optical and electrical properties of (Ti,Nb)Ox thin films deposited by high energy reactive magnetron sputtering

Michal Mazur

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Mazur, Michal
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Jakub Bocheński

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Bocheński, Jakub
  
17. Okt. 2014
Investigation of structural, optical and electrical properties of (Ti,Nb)Ox thin films deposited by high energy reactive magnetron sputtering's Cover Image
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Online veröffentlicht: 17. Okt. 2014
Seitenbereich: 457 - 464
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-013-0195-4
Schlüsselwörter
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Mazur, Michal
Kaczmarek, Danuta
Prociow, Eugeniusz
Domaradzki, Jaroslaw
Wojcieszak, Damian
Bocheński, Jakub
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien
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