Login
Registrieren
Passwort zurücksetzen
Veröffentlichen & Verteilen
Verlagslösungen
Vertriebslösungen
Themen
Allgemein
Altertumswissenschaften
Architektur und Design
Bibliotheks- und Informationswissenschaft, Buchwissenschaft
Biologie
Chemie
Geowissenschaften
Geschichte
Industrielle Chemie
Informatik
Jüdische Studien
Kulturwissenschaften
Kunst
Linguistik und Semiotik
Literaturwissenschaft
Materialwissenschaft
Mathematik
Medizin
Musik
Pharmazie
Philosophie
Physik
Rechtswissenschaften
Sozialwissenschaften
Sport und Freizeit
Technik
Theologie und Religion
Wirtschaftswissenschaften
Veröffentlichungen
Zeitschriften
Bücher
Konferenzberichte
Verlage
Blog
Kontakt
Suche
EUR
USD
GBP
Deutsch
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Warenkorb
Home
Zeitschriften
Materials Science-Poland
Band 36 (2018): Heft 1 (March 2018)
Uneingeschränkter Zugang
Thin Si
x
N
y
C
z
films deposited from hexamethyldisilazane by RF PECVD technique for optical filter applications
Katarzyna Oleśko
Katarzyna Oleśko
,
Hieronim Szymanowski
Hieronim Szymanowski
,
Maciej Gazicki-Lipman
Maciej Gazicki-Lipman
,
Jacek Balcerzak
Jacek Balcerzak
,
Witold Szymań Ski
Witold Szymań Ski
,
Wojciech Pawlak
Wojciech Pawlak
und
Anna Sobczyk-Guzenda
Anna Sobczyk-Guzenda
| 18. Mai 2018
Materials Science-Poland
Band 36 (2018): Heft 1 (March 2018)
Über diesen Artikel
Vorheriger Artikel
Nächster Artikel
Zusammenfassung
Referenzen
Autoren
Artikel in dieser Ausgabe
Vorschau
PDF
Zitieren
Teilen
Online veröffentlicht:
18. Mai 2018
Seitenbereich:
56 - 68
Eingereicht:
13. März 2017
Akzeptiert:
08. Dez. 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0109
Schlüsselwörter
HMDSN
,
PECVD
,
refractive index
,
chemical structure
,
adhesion
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.