Otwarty dostęp

Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO3 films

S. Subbarayudu

S. Subbarayudu

Department of Physics, S.B.V.R. Degree CollegeIndia
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Subbarayudu, S.
, 
K. Venkata Subba Reddy

K. Venkata Subba Reddy

Department of Physics, S.B.V.R. Degree CollegeIndia
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Reddy, K. Venkata Subba
 oraz 
S. Uthanna

S. Uthanna

Department of Physics, Sri Venkateswara UniversityTirupati, India
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Uthanna, S.
  
08 maj 2020
Sputtering pressure influenced structural, electrical and optical properties of RF magnetron sputtered MoO3 films's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 08 maj 2020
Zakres stron: 41 - 47
Otrzymano: 17 sie 2017
Przyjęty: 23 kwi 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2020-0001
Słowa kluczowe
© 2020 S. Subbarayudu et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Subbarayudu, S.
Department of Physics, S.B.V.R. Degree CollegeIndia
Reddy, K. Venkata Subba
Department of Physics, S.B.V.R. Degree CollegeIndia
Uthanna, S.
Department of Physics, Sri Venkateswara UniversityTirupati, India
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
4 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Nauka o materiałach, Nauka o materiałach, inne, Nanomateriały, Funkcjonalne i inteligentne materiały, Charakterystyka i właściwości materiałów
Kanał RSS czasopisma