Otwarty dostęp

ZnO-Thin Film Growth Processes: Correlation Between the Structural Properties of Hydrochloric Acid (HCl) and Water (H2O) Solution Effect Using Innovative Electrostatic Spray Deposition (ESd) Technology

F. I. Abbas

F. I. Abbas

  • Department of Electrical Engineering, Tokyo University of ScienceJapan
  • Department of Theoretical Physics, University of DhakaDhaka, Bangladesh
  • Department of Electrical Engineering, City UniversityBangladesh
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Abbas, F. I.
 oraz 
M. Sugiyama

M. Sugiyama

  • Department of Electrical Engineering, Tokyo University of ScienceJapan
  • Research Institute, RIST, Tokyo University of ScienceJapan
Wyszukaj tego autora
Sciendo|Google Scholar
Sugiyama, M.
  
27 maj 2025
ZnO-Thin Film Growth Processes: Correlation Between the Structural Properties of Hydrochloric Acid (HCl) and Water (H2O) Solution Effect Using Innovative Electrostatic Spray Deposition (ESd) Technology's Cover Image
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Zacytuj
Pobierz okładkę
Data publikacji: 27 maj 2025
Zakres stron: 68 - 76
DOI: https://doi.org/10.2478/lpts-2025-0023
Słowa kluczowe
© 2025 F. I. Abbas et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Język:
Angielski
Częstotliwość wydawania:
6 razy w roku
Dziedziny czasopisma:
Fizyka, Fizyka techniczna i stosowana
Kanał RSS czasopisma