Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
Koszyk
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Home
Czasopisma
Journal of Electrical Engineering
Tom 73 (2022): Zeszyt 5 (September 2022)
Otwarty dostęp
Effects of metal layers on chemical vapor deposition of diamond films
Tibor Izsák
Tibor Izsák
,
Gabriel Vanko
Gabriel Vanko
,
Oleg Babčenko
Oleg Babčenko
,
Bohumír Zat’ko
Bohumír Zat’ko
oraz
Alexander Kromka
Alexander Kromka
| 15 lis 2022
Journal of Electrical Engineering
Tom 73 (2022): Zeszyt 5 (September 2022)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
15 lis 2022
Zakres stron:
350 - 354
Otrzymano:
10 wrz 2022
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2022-0047
Słowa kluczowe
diamond
,
CVD
,
metallization
,
iridium
,
raman
,
SEM
© 2022 Tibor Izsák et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Tibor Izsák
Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences
Bratislava, Slovakia
Gabriel Vanko
Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences
Bratislava, Slovakia
Oleg Babčenko
Institute of Physics, Czech Academy of Sciences v.v.i
Prague 6, Czech Republic
Bohumír Zat’ko
Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences
Bratislava, Slovakia
Alexander Kromka
Institute of Physics, Czech Academy of Sciences v.v.i
Prague 6, Czech Republic