Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Journal of Electrical Engineering
Tom 70 (2019): Zeszyt 2 (April 2019)
Otwarty dostęp
Formation of nanocrystalline alloys after Cu ions implantation into amorphous precursor
Jozef Sitek
Jozef Sitek
,
Dominika Holková
Dominika Holková
,
Július Dekan
Július Dekan
,
Milan Pavúk
Milan Pavúk
oraz
Patrik Novák
Patrik Novák
| 13 maj 2019
Journal of Electrical Engineering
Tom 70 (2019): Zeszyt 2 (April 2019)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
13 maj 2019
Zakres stron:
171 - 175
Otrzymano:
17 gru 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0025
Słowa kluczowe
amorphous alloys
,
nanocrystalline alloys
,
radiation damage
,
Mössbauer spectroscopy
© 2019 Jozef Sitek et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.