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Journal of Electrical Engineering
Volume 70 (2019): Numero 2 (April 2019)
Accesso libero
Formation of nanocrystalline alloys after Cu ions implantation into amorphous precursor
Jozef Sitek
Jozef Sitek
,
Dominika Holková
Dominika Holková
,
Július Dekan
Július Dekan
,
Milan Pavúk
Milan Pavúk
e
Patrik Novák
Patrik Novák
| 13 mag 2019
Journal of Electrical Engineering
Volume 70 (2019): Numero 2 (April 2019)
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Pubblicato online:
13 mag 2019
Pagine:
171 - 175
Ricevuto:
17 dic 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0025
Parole chiave
amorphous alloys
,
nanocrystalline alloys
,
radiation damage
,
Mössbauer spectroscopy
© 2019 Jozef Sitek et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.