Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 35 (2017): Zeszyt 1 (March 2017)
Otwarty dostęp
Effect of electron beam injection on boron redistribution in silicon and oxide layer
Shiqiang Qin
Shiqiang Qin
,
Yi Tan
Yi Tan
,
Jiayan Li
Jiayan Li
,
Dachuan Jiang
Dachuan Jiang
,
Shutao Wen
Shutao Wen
oraz
Shuang Shi
Shuang Shi
| 24 lut 2017
Materials Science-Poland
Tom 35 (2017): Zeszyt 1 (March 2017)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Artykuł
Ilustracje i tabele
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
24 lut 2017
Zakres stron:
14 - 17
Otrzymano:
29 lut 2016
Przyjęty:
15 sty 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0027
Słowa kluczowe
electron beam injection
,
silicon
,
solar energy materials
,
boron
,
oxidation
© 2017 Shiqiang Qin, Yi Tan, Jiayan Li, Dachuan Jiang, Shutao Wen, Shuang Shi
This article is distributed under the terms of the Creative Commons Attribution Non-Commercial License, which permits unrestricted non-commercial use, distribution, and reproduction in any medium, provided the original work is properly cited.