Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 34 (2016): Zeszyt 1 (March 2016)
Otwarty dostęp
The application of magnetic self-filter to optimization of AIN film growth process during the impulse plasma deposition synthesis
Rafal Chodun
Rafal Chodun
,
Katarzyna Nowakowska-Langier
Katarzyna Nowakowska-Langier
,
Sebastian Okrasa
Sebastian Okrasa
oraz
Krzysztof Zdunek
Krzysztof Zdunek
| 27 kwi 2016
Materials Science-Poland
Tom 34 (2016): Zeszyt 1 (March 2016)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Artykuł
Ilustracje i tabele
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Article Category:
Research Article
Data publikacji:
27 kwi 2016
Zakres stron:
126 - 131
Otrzymano:
21 lip 2015
Przyjęty:
16 lis 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2016-0007
Słowa kluczowe
IPD method
,
magnetic filter
,
nanocrystalline films
,
thin films
© Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Fig. 1
Schematic diagram of the apparatus used in the experiment (A), wiring diagram of the coil connected with plasma accelerator (B) and photograph of the coil coupled with accelerator installed in the vacuum chamber.
Fig. 2
Photograph of full single plasma pack guided by the bent down coil of filter.
Fig. 3
Comparison of optical spectrum of magnetically filtered impulse plasma (red) with optical spectrum of plasma generated at standard apparatus of IPD method (blue).
Fig. 4
Raman spectra of AlN films deposited on silicon substrates during the experiment with magnetic filtering (top) and without filtering (bottom).
Fig. 5
Surface images of AlN films deposited by a standard apparatus (A) and by the apparatus with the filter coupled with accelerator.
Fig. 6
SEM photographs of AlN films structures deposited during the processes with the standard accelerator (left column) and using a plasma filtering (right column).