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Preparation and microstructural characterization of Si(100) Ce1−x GdxO2−δ thin films prepared by pulsed laser deposition technique

P. Nagaraju

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Y. Vijayakumar

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M. Ramana Reddy

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Ramana Reddy, M.
  
19 dic 2014
Preparation and microstructural characterization of Si(100) Ce1−x GdxO2−δ thin films prepared by pulsed laser deposition technique's Cover Image
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Pubblicato online: 19 dic 2014
Pagine: 541 - 546
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-014-0246-5
Parole chiave
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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