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Materials Science-Poland
Volume 32 (2014): Numero 2 (June 2014)
Accesso libero
Optimization of gas injection conditions during deposition of AlN layers by novel reactive GIMS method
Krzysztof Zdunek
Krzysztof Zdunek
,
Katarzyna Nowakowska-Langier
Katarzyna Nowakowska-Langier
,
Rafal Chodun
Rafal Chodun
,
Jerzy Dora
Jerzy Dora
,
Sebastian Okrasa
Sebastian Okrasa
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Ewa Talik
Ewa Talik
| 22 lug 2014
Materials Science-Poland
Volume 32 (2014): Numero 2 (June 2014)
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Pubblicato online:
22 lug 2014
Pagine:
171 - 175
DOI:
https://doi.org/10.2478/s13536-013-0169-6
Parole chiave
plasma surface engineering
,
magnetron sputtering
,
aluminum nitride deposition
© 2013 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Krzysztof Zdunek
Katarzyna Nowakowska-Langier
National Centre for Nuclear Research, Swierk/Otwock, Poland
Rafal Chodun
Faculty of Materials Science, Warsaw University of Technology, Warsaw, Poland
Jerzy Dora
Dora Power Systems, Wilczyce/Wroclaw, Poland
Sebastian Okrasa
Faculty of Materials Science, Warsaw University of Technology, Warsaw, Poland
Ewa Talik
Institute of Physics, Silesian University, Katowice, Poland