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Annealing effect on the structural and optoelectronic properties of Cu-Cr-O thin films deposited by reactive magnetron sputtering using a single CuCr target

Du-Cheng Tsai

Du-Cheng Tsai

Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing UniversityTaiwan, Republic of China
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Tsai, Du-Cheng
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Erh-Chiang Chen

Erh-Chiang Chen

Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing UniversityTaiwan, Republic of China
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Chen, Erh-Chiang
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Yen-Lin Huang

Yen-Lin Huang

Metal Industries Research and Development CentreTaiwan, Republic of China
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Huang, Yen-Lin
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Fuh-Sheng Shieu

Fuh-Sheng Shieu

Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing UniversityTaiwan, Republic of China
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Shieu, Fuh-Sheng
 e 
Zue-Chin Chang

Zue-Chin Chang

Department of Mechanical Engineering, National Chin-Yi University of TechnologyTaiwan, Republic of China
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Chang, Zue-Chin
  
25 ago 2023
Annealing effect on the structural and optoelectronic properties of Cu-Cr-O thin films deposited by reactive magnetron sputtering using a single CuCr target's Cover Image
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Pubblicato online: 25 ago 2023
Pagine: 191 - 201
Ricevuto: 15 mag 2023
Accettato: 13 lug 2023
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2023-0017
Parole chiave
© 2023 Du-Cheng Tsai et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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