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A study of properties of ZrO2 thin films deposited by magnetron sputtering under different plasma parameters: Biomedical application

INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO

Cita

Hind Zegtouf
Laboratoire Physique des Matériaux, Faculté de Physique, USTHBAlgiers, Algeria
Nadia Saoula
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Mourad Azibi
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Larbi Bait
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Noureddine Madaoui
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Mohamed Redha Khelladi
Laboratoire de Chimie, Université Ferhat Abbas-Sétif 1Sétif, Algeria
Mohamed Kechouane
Laboratoire Physique des Matériaux, Faculté de Physique, USTHBAlgiers, Algeria
eISSN:
1339-309X
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
6 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Engineering, Introductions and Overviews, other