Acceso abierto

A study of properties of ZrO2 thin films deposited by magnetron sputtering under different plasma parameters: Biomedical application


Cite

Hind Zegtouf
Laboratoire Physique des Matériaux, Faculté de Physique, USTHBAlgiers, Algeria
Nadia Saoula
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Mourad Azibi
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Larbi Bait
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Noureddine Madaoui
Division Milieux Ionisés et Lasers Centre de Développement des Technologies Avancées, CDTAAlgiers, Algeria
Mohamed Redha Khelladi
Laboratoire de Chimie, Université Ferhat Abbas-Sétif 1Sétif, Algeria
Mohamed Kechouane
Laboratoire Physique des Matériaux, Faculté de Physique, USTHBAlgiers, Algeria
eISSN:
1339-309X
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
6 veces al año
Temas de la revista:
Engineering, Introductions and Overviews, other