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A study of properties of ZrO2 thin films deposited by magnetron sputtering under different plasma parameters: Biomedical application

INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO

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eISSN:
1339-309X
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
6 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Engineering, Introductions and Overviews, other