Login
Registrati
Reimposta password
Pubblica & Distribuisci
Soluzioni Editoriali
Soluzioni di Distribuzione
Temi
Architettura e design
Arti
Business e Economia
Chimica
Chimica industriale
Farmacia
Filosofia
Fisica
Geoscienze
Ingegneria
Interesse generale
Legge
Letteratura
Linguistica e semiotica
Matematica
Medicina
Musica
Scienze bibliotecarie e dell'informazione, studi library
Scienze dei materiali
Scienze della vita
Scienze informatiche
Scienze sociali
Sport e tempo libero
Storia
Studi classici e del Vicino Oriente antico
Studi culturali
Studi ebraici
Teologia e religione
Pubblicazioni
Riviste
Libri
Atti
Editori
Blog
Contatti
Cerca
EUR
USD
GBP
Italiano
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Carrello
Home
Riviste
Journal of Electrical Engineering
Volume 70 (2019): Numero 7 (December 2019)
Accesso libero
A study of properties of ZrO
2
thin films deposited by magnetron sputtering under different plasma parameters: Biomedical application
Hind Zegtouf
Hind Zegtouf
,
Nadia Saoula
Nadia Saoula
,
Mourad Azibi
Mourad Azibi
,
Larbi Bait
Larbi Bait
,
Noureddine Madaoui
Noureddine Madaoui
,
Mohamed Redha Khelladi
Mohamed Redha Khelladi
e
Mohamed Kechouane
Mohamed Kechouane
| 28 set 2019
Journal of Electrical Engineering
Volume 70 (2019): Numero 7 (December 2019)
Special Issue
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Sommario
Bibliografia
Autori
Articoli in questo Numero
Anteprima
PDF
Cita
CONDIVIDI
Pubblicato online:
28 set 2019
Pagine:
117 - 121
Ricevuto:
19 mar 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0052
Parole chiave
ZrO
,
magnetron sputtering
,
thin films
,
hardness
,
corrosion
© 2019 Hind Zegtouf et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.