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Journal of Electrical Engineering
Volume 67 (2016): Numero 6 (Dicembre 2016)
Accesso libero
Effects of HSQ e–beam Resist Processing on the Fabrication of ICP–RIE Etched TiO
2
Nanostructures
Ivan Hotovy
Ivan Hotovy
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Vlastimil Rehacek
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Rehacek, Vlastimil
30 dic 2016
Journal of Electrical Engineering
Volume 67 (2016): Numero 6 (Dicembre 2016)
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Pubblicato online:
30 dic 2016
Pagine:
454 - 458
Ricevuto:
07 lug 2016
DOI:
https://doi.org/10.1515/jee-2016-0067
Parole chiave
HSQ e-beam resist
,
ICP-RIE etching
,
TiO dots array
© 2016 Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, Slovak University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
