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Polish Journal of Chemical Technology
Édition 26 (2024): Edition 2 (June 2024)
Accès libre
Enhanced antireflective and laser damage resistance of refractive-index gradient SiO
2
nanostructured films at 1064 nm
Lili Wan
Lili Wan
,
Jie Yang
Jie Yang
,
Xiaoru Liu
Xiaoru Liu
,
Jiayi Zhu
Jiayi Zhu
,
Gang Xu
Gang Xu
,
Chenchun Hao
Chenchun Hao
,
Xuecheng Chen
Xuecheng Chen
et
Zhengwei Xiong
Zhengwei Xiong
| 12 juil. 2024
Polish Journal of Chemical Technology
Édition 26 (2024): Edition 2 (June 2024)
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Publié en ligne:
12 juil. 2024
Pages:
25 - 30
DOI:
https://doi.org/10.2478/pjct-2024-0014
Mots clés
SiO nanostructured films
,
Sol-gel procedure
,
Refractive-index gradient
,
Antireflective
,
Laser damage resistance
© 2024 Lili Wan et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution 4.0 International License.