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Polish Journal of Chemical Technology
Volume 26 (2024): Numero 2 (June 2024)
Accesso libero
Enhanced antireflective and laser damage resistance of refractive-index gradient SiO
2
nanostructured films at 1064 nm
Lili Wan
Lili Wan
,
Jie Yang
Jie Yang
,
Xiaoru Liu
Xiaoru Liu
,
Jiayi Zhu
Jiayi Zhu
,
Gang Xu
Gang Xu
,
Chenchun Hao
Chenchun Hao
,
Xuecheng Chen
Xuecheng Chen
e
Zhengwei Xiong
Zhengwei Xiong
| 12 lug 2024
Polish Journal of Chemical Technology
Volume 26 (2024): Numero 2 (June 2024)
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Pubblicato online:
12 lug 2024
Pagine:
25 - 30
DOI:
https://doi.org/10.2478/pjct-2024-0014
Parole chiave
SiO nanostructured films
,
Sol-gel procedure
,
Refractive-index gradient
,
Antireflective
,
Laser damage resistance
© 2024 Lili Wan et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution 4.0 International License.