Uneingeschränkter Zugang

Properties of AlN thin films deposited by means of magnetron sputtering for ISFET applications


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Piotr Firek
Institute of Microelectronics and Optoelectronics Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
Michał Wáskiewicz
Institute of Microelectronics and Optoelectronics Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
Bartłomiej Stonio
Institute of Microelectronics and Optoelectronics Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
Jan Szmidt
Institute of Microelectronics and Optoelectronics Warsaw University of TechnologyWarsaw, Poland
eISSN:
2083-134X
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien