Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 31 (2013): Zeszyt 3 (August 2013)
Otwarty dostęp
Effect of working pressure on the structural, optical and electrical properties of titanium-gallium co-doped zinc oxide thin films
Teng Zhang
Teng Zhang
oraz
Zhiyou Zhong
Zhiyou Zhong
| 29 sie 2013
Materials Science-Poland
Tom 31 (2013): Zeszyt 3 (August 2013)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
29 sie 2013
Zakres stron:
454 - 461
DOI:
https://doi.org/10.2478/s13536-013-0125-5
Słowa kluczowe
transparent conducting oxide
,
ZnO thin films
,
sputtering
,
optoelectrical properties
© 2013 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Teng Zhang
Plasma Research Institute, South-Central University for Nationalities, Hubei, Wuhan, 430073, People’s Republic of China
Zhiyou Zhong