Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 39 (2021): Zeszyt 2 (June 2021)
Otwarty dostęp
Optoelectronics applications of electrodeposited p- and n-type Al
2
Se
3
thin films
A. A. Faremi
A. A. Faremi
,
S. S. Oluyamo
S. S. Oluyamo
,
O. Olubosede
O. Olubosede
,
I. O. Olusola
I. O. Olusola
,
M. A. Adekoya
M. A. Adekoya
oraz
A. T. Akindadelo
A. T. Akindadelo
| 02 wrz 2021
Materials Science-Poland
Tom 39 (2021): Zeszyt 2 (June 2021)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Artykuł
Ilustracje i tabele
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
02 wrz 2021
Zakres stron:
166 - 171
Otrzymano:
20 lut 2021
Przyjęty:
25 lut 2021
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2021-0011
Słowa kluczowe
electrodeposition
,
cathodic graphide
,
p- and n-type AlSe
,
energy gap
© 2021 A. A. Faremi et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.