Metal-organic chemical vapour deposition of lithium manganese oxide thin films via single solid source precursor

Data publikacji: 06 sty 2016

Zakres stron: 725 - 731

Otrzymano: 08 gru 2014

Przyjęty: 25 sie 2015

DOI: https://doi.org/10.1515/msp-2015-0102

Słowa kluczowe

MOCVD, thin film, pyrolysis, LiMnO, Rutherford backscattering, bandgap energy

© 2015 K.O. Oyedotun et al., published by De Gruyter Open

This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.