Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 4 (December 2015)
Otwarty dostęp
Metal-organic chemical vapour deposition of lithium manganese oxide thin films via single solid source precursor
K.O. Oyedotun
K.O. Oyedotun
,
E. Ajenifuja
E. Ajenifuja
,
B. Olofinjana
B. Olofinjana
,
B.A. Taleatu
B.A. Taleatu
,
E. Omotoso
E. Omotoso
,
M.A. Eleruja
M.A. Eleruja
oraz
E.O.B. Ajayi
E.O.B. Ajayi
| 06 sty 2016
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 4 (December 2015)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
06 sty 2016
Zakres stron:
725 - 731
Otrzymano:
08 gru 2014
Przyjęty:
25 sie 2015
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0102
Słowa kluczowe
MOCVD
,
thin film
,
pyrolysis
,
LiMnO
,
Rutherford backscattering
,
bandgap energy
© 2015 K.O. Oyedotun et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.