Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 1 (March 2015)
Otwarty dostęp
Computer simulation of sputtering of graphite target in magnetron sputtering device with two zones of erosion
R.V. Bogdanov
R.V. Bogdanov
oraz
O.M. Kostiukevych
O.M. Kostiukevych
| 13 mar 2015
Materials Science-Poland
Tom 33 (2015): Zeszyt 1 (March 2015)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
13 mar 2015
Zakres stron:
82 - 94
Otrzymano:
21 maj 2014
Przyjęty:
20 wrz 2014
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2015-0001
© 2015
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
R.V. Bogdanov
Taras Shevenko National University of Kyiv, Faculty of Radio Physics, Electronics and Computer Systems, 4G, Prospekt Hlushkov, Kyiv, Ukraine
O.M. Kostiukevych
Taras Shevenko National University of Kyiv, Faculty of Radio Physics, Electronics and Computer Systems, 4G, Prospekt Hlushkov, Kyiv, Ukraine