Accesso libero

SiN/SiO2 passivation stack of n-type silicon surface

A. El Amrani

A. El Amrani

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
El Amrani, A.
, 
R. Si-Kaddour

R. Si-Kaddour

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Si-Kaddour, R.
, 
M. Maoudj

M. Maoudj

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Maoudj, M.
 e 
C. Nasraoui

C. Nasraoui

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Nasraoui, C.
  
18 ott 2019
SiN/SiO2 passivation stack of n-type silicon surface's Cover Image
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Cita
Scarica la copertina
Pubblicato online: 18 ott 2019
Pagine: 482 - 487
Ricevuto: 28 ott 2018
Accettato: 23 apr 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0065
Parole chiave
© 2019 A. El Amrani et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
Feed RSS della rivista