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SiN/SiO₂ passivation stack of n-type silicon surface

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18 oct 2019

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Materials Science-Poland

Volumen 37 (2019): Edición 3 (Septiembre 2019)

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Publicado en línea: 18 oct 2019

Páginas: 482 - 487

Recibido: 28 oct 2018

Aceptado: 23 abr 2019

DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0065

Palabras clave
silicon, passivation, silicon nitride, oxide

© 2019 A. El Amrani et al., published by Sciendo

This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.

Idioma:: Inglés

Calendario de la edición:: 4 veces al año
Temas de la revista:: Ciencia de los materiales, Ciencia de los materiales, otros, Nanomateriales, Materiales funcionales e inteligentes, Características y propiedades de los materiales

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